q150t es plus高真空離子濺射鍍膜儀裝在一個堅固的特制整體成型機箱中，包括空氣冷卻的70l/s渦輪分子泵。自動進氣控制保證了鍍膜期間最佳的真空條件。

q150r es plus離子濺射/碳蒸發(fā)一體化鍍膜儀適用于給樣品鍍制不氧化金屬膜（即貴金屬膜），標(biāo)配一塊金靶，也可選配金、銀、鉑、鈀、金/鈀合金及鉑/鈀合金等金屬靶；以及為eds樣品鍍制碳膜。（對于易氧化金屬的濺射鍍膜或需鍍制tem碳支持膜，請選購q150t plus系列高真空鍍膜儀）

日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品直徑：60 mm日立高新磁控濺射器（hitachi ion sputter )mc1000的最大樣品高度：20 mm

廣州儀弘it-10固體負離子測試儀it-10采用美國最先進的gm射線離子探測技術(shù)，來測量從天然礦石、陶瓷、電氣石等所產(chǎn)生的微弱放射線能量，通過大量實驗數(shù)據(jù)積累和精密的換算，將放射線能量運用最先進的處理程序換算成負離子數(shù)量，此方法可以得到非常精準(zhǔn)的測量。