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電解水制氫設(shè)備是利用電力把水分子電離后獲得氫氣和氧氣的裝置。其特點(diǎn)是設(shè)備簡(jiǎn)單、氣體純度高、技術(shù)成熟、操作簡(jiǎn)單、占地面積小、可小型化等特點(diǎn)應(yīng)用于電子、電力、冶金、建材、化工、氣象、航天、新能源等域。一般設(shè)備包括：電解槽、后處理系統(tǒng)、純化系統(tǒng)、直流電源、控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-09-16
電解水制氫測(cè)試平臺(tái)，水電解制氫測(cè)試平臺(tái)、制氫測(cè)試平臺(tái)本平臺(tái)可用于電解水制氫的研究，測(cè)試機(jī)功率范圍為2kw-10kw。
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蘇州穆爾氣體設(shè)備有限公司 ? 氣體混配器 ? 二元?dú)怏w混配器、氣體混配柜 二元?dú)怏w混配器、氣體混配柜品簡(jiǎn)介：二元?dú)怏w混合配比類別如下（不完全包含）進(jìn)氣包括兩種氣體，按照一定比例進(jìn)行混合，配合出用戶要求含量。氫氣氮?dú)饣炫?應(yīng)用在電子廠，冶金，退火等做保護(hù)氣，其它化工，機(jī)械行業(yè)等。氘氣氮
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：三元?dú)怏w混配類別如下（不完全包含）空氣氬氣sf6混配：應(yīng)用于合金壓鑄行業(yè)等。處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa，可調(diào)其中各氣體的含量：0-99％,可調(diào)精度：≤±0.2％以內(nèi)控制模式有兩種：手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-100）nm3/h壓力：≤3.0mpa露點(diǎn)：≤-70℃廣泛應(yīng)用于：電廠及需要干燥氫氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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電解水制氫測(cè)試平臺(tái)，水電解制氫測(cè)試平臺(tái)、制氫測(cè)試平臺(tái)本平臺(tái)可用于電解水制氫的研究，測(cè)試機(jī)功率范圍為2kw-10kw。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-3000）nm3/h壓力：0.4-0.8mpa露點(diǎn)：≤-60℃廣泛應(yīng)用于：電子，機(jī)械、造船、制藥、石油、化工等行業(yè)，用作氣動(dòng)控制元件，自動(dòng)化儀表，氣動(dòng)傳送，管道干燥，凈化空氣的氣源。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-100）nm3/h壓力：≤1.0mpa氘氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氘含氧量：≤1ppm廣泛應(yīng)用于：需要用到氘氣的科研及生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10）nm3/h壓力：≤5.0mpa氦氣氣純度：≥99.9998％ 露點(diǎn)：≤-78℃氧含量：≤0.5ppm氮含量：≤1ppm氫含量：≤0.1ppm廣泛應(yīng)用于：光纖、氦檢等需要用高純氦氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa氬氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃含氧量：≤1.5ppm含氫量：≤0.5ppm含氮量：≤4ppmσch≤1ppm廣泛應(yīng)用于：熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤1.0mpa氮?dú)饧兌龋骸?9.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氮含氧量：≤3ppm廣泛應(yīng)用于：金屬粉末行業(yè)，還原爐等氮?dú)庥昧看蟮男袠I(yè)的氮?dú)獾幕厥占凹兓?/div>
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氮?dú)饧兌龋骸?9.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氮含氧量：≤3ppm廣泛應(yīng)用于：電子、冶金、化工、熱處理、化纖、食品等需要高純氮?dú)獾挠嘘P(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-100）nm3/h壓力：≤5.0mpa氦氣氣純度：≥99.9998％ 露點(diǎn)：≤-78℃氧含量：≤0.5ppm氮含量：≤1ppm氫含量：≤0.1ppm廣泛應(yīng)用于：光纖、氦檢等需要用高純氦氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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蘇州穆爾氣體設(shè)備有限公司 ? 氣體純化 ? 氫氣純化設(shè)備 氫氣純化設(shè)備產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氫氣純度：≥99.9999％ 露點(diǎn)：≤-76℃純氫含氧量：≤0.2ppm廣泛應(yīng)用于：石油化工、電子工業(yè)、半導(dǎo)體、冶金工業(yè)、食品加工、浮法玻璃等需要高純氫氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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蘇州穆爾氣體設(shè)備有限公司 ? 光纖氘氣處理柜 ? 氘氣處理柜 ? 光纖氘氣處理氣柜 光纖氘氣處理氣柜產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 各種氣柜定制：如光纖上用的氘氣柜、光纖氘氣處理氣柜等，可根據(jù)用戶來(lái)定制，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化的操作。
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處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa氬氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃含氧量：≤1.5ppm含氫量：≤0.5ppm含氮量：≤4ppmσch≤1ppm廣泛應(yīng)用于：熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氮?dú)饧兌龋骸?9.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氮含氧量：≤3ppm廣泛應(yīng)用于：電子、冶金、化工、熱處理、化纖、食品等需要高純氮?dú)獾挠嘘P(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氧氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-72℃純氧含氫量：≤0.5ppm廣泛應(yīng)用于：電子工業(yè)、半導(dǎo)體、光纖等需要高純氧氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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電解水制氫設(shè)備是利用電力把水分子電離后獲得氫氣和氧氣的裝置。其特點(diǎn)是設(shè)備簡(jiǎn)單、氣體純度高、技術(shù)成熟、操作簡(jiǎn)單、占地面積小、可小型化等特點(diǎn)應(yīng)用于電子、電力、冶金、建材、化工、氣象、航天、新能源等域。一般設(shè)備包括：電解槽、后處理系統(tǒng)、純化系統(tǒng)、直流電源、控制系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：多元?dú)怏w混配類別由用戶指定。處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa，可調(diào)其中各氣體的含量：0-99％,可調(diào)精度：≤±0.2％以內(nèi)控制模式有兩種：手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氧氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-72℃純氧含氫量：≤0.5ppm廣泛應(yīng)用于：電子工業(yè)、半導(dǎo)體、光纖等需要高純氧氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氮?dú)饧兌龋骸?9.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氮含氧量：≤3ppm廣泛應(yīng)用于：電子、冶金、化工、熱處理、化纖、食品等需要高純氮?dú)獾挠嘘P(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-100）nm3/h壓力：≤1.0mpa氘氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氘含氧量：≤1ppm廣泛應(yīng)用于：需要用到氘氣的科研及生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-3000）nm3/h壓力：0.4-0.8mpa露點(diǎn)：≤-60℃廣泛應(yīng)用于：電子，機(jī)械、造船、制藥、石油、化工等行業(yè)，用作氣動(dòng)控制元件，自動(dòng)化儀表，氣動(dòng)傳送，管道干燥，凈化空氣的氣源。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：三元?dú)怏w混配類別如下（不完全包含）空氣氬氣sf6混配：應(yīng)用于合金壓鑄行業(yè)等。處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa，可調(diào)其中各氣體的含量：0-99％,可調(diào)精度：≤±0.2％以內(nèi)控制模式有兩種：手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制。
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蘇州穆爾氣體設(shè)備有限公司 ꄲ 氣體純化 ꄲ 氫氣純化設(shè)備 氫氣純化設(shè)備產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氫氣純度：≥99.9999％ 露點(diǎn)：≤-76℃純氫含氧量：≤0.2ppm廣泛應(yīng)用于：石油化工、電子工業(yè)、半導(dǎo)體、冶金工業(yè)、食品加工、浮法玻璃等需要高純氫氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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蘇州穆爾氣體設(shè)備有限公司 ꄲ 光纖氘氣處理柜 ꄲ 氘氣處理柜 ꄲ 光纖氘氣處理氣柜 光纖氘氣處理氣柜產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 各種氣柜定制：如光纖上用的氘氣柜、光纖氘氣處理氣柜等，可根據(jù)用戶來(lái)定制，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化的操作。
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處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa氬氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃含氧量：≤1.5ppm含氫量：≤0.5ppm含氮量：≤4ppmσch≤1ppm廣泛應(yīng)用于：熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-100）nm3/h壓力：≤5.0mpa氦氣氣純度：≥99.9998％ 露點(diǎn)：≤-78℃氧含量：≤0.5ppm氮含量：≤1ppm氫含量：≤0.1ppm廣泛應(yīng)用于：光纖、氦檢等需要用高純氦氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤5.0mpa氮?dú)饧兌龋骸?9.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氮含氧量：≤3ppm廣泛應(yīng)用于：電子、冶金、化工、熱處理、化纖、食品等需要高純氮?dú)獾挠嘘P(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10000）nm3/h壓力：≤1.0mpa氮?dú)饧兌龋骸?9.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃純氮含氧量：≤3ppm廣泛應(yīng)用于：金屬粉末行業(yè)，還原爐等氮?dú)庥昧看蟮男袠I(yè)的氮?dú)獾幕厥占凹兓?/div>
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-200）nm3/h壓力：≤1.0mpa氬氣純度：≥99.999％ 露點(diǎn)：≤-70℃含氧量：≤1.5ppm含氫量：≤0.5ppm含氮量：≤4ppmσch≤1ppm廣泛應(yīng)用于：熔硅單晶爐配套使用，激光器、濺射、半導(dǎo)體生產(chǎn)，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：處理氣量：（1-10）nm3/h壓力：≤5.0mpa氦氣氣純度：≥99.9998％ 露點(diǎn)：≤-78℃氧含量：≤0.5ppm氮含量：≤1ppm氫含量：≤0.1ppm廣泛應(yīng)用于：光纖、氦檢等需要用高純氦氣的有關(guān)科研和生產(chǎn)部門。
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