超聲波清洗機(jī) 主要性能及特點(diǎn):
數(shù)顯設(shè)定超聲工作頻率數(shù)顯設(shè)定超聲功率50-100%數(shù)顯設(shè)定加熱溫度和實(shí)際溫度儀器具有低水位,無(wú)溶液保護(hù)指示儀器網(wǎng)架采用不銹鋼網(wǎng)師氬焊成型數(shù)顯設(shè)定超聲頻率轉(zhuǎn)換時(shí)間儀器的程序采用單片機(jī)軟件儀器的內(nèi)外殼體采用不銹鋼儀器采用電控進(jìn)水,排液功能
| 型號(hào) | 內(nèi)槽尺寸 | 容量 | 超聲頻率 | 超聲功率 | 功率可調(diào) | 加執(zhí)功率 | 溫度范圍 | 時(shí)間范圍 | 排水 | 降音蓋 | 網(wǎng)架 | 價(jià)格 |
| KH1000SP | 600＊300＊288 | 52 | 25/40/80 | 1000 | 50-100 | 1000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無(wú) | 有 | |
| KH1000SPV | 600＊300＊288 | 52 | 25/40/80 | 1000 | 50-100 | 1000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 | |
| KH1500SP | 700＊400＊288 | 80 | 25/40/80 | 1500 | 50-100 | 1500 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無(wú) | 有 | |
| KH1500SPV | 700＊400＊288 | 80 | 25/40/80 | 1500 | 50-100 | 1500 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 | |
| KH2000SP | 800＊500＊288 | 115 | 25/40/80 | 2000 | 50-100 | 2000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無(wú) | 有 | |
| KH2000SPV | 800＊500＊288 | 115 | 25/40/80 | 2000 | 50-100 | 2000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 | |
| KH3000SP | 900＊600＊288 | 170 | 25/40/80 | 3000 | 50-100 | 3000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 無(wú) | 有 | |
| KH3000SPV | 900＊600＊288 | 170 | 25/40/80 | 3000 | 50-100 | 3000 | 0-80 | 0-480 | 有 | 有 | 有 |
KQ系列臺(tái)式雙頻恒溫?cái)?shù)控超聲波清洗器 超聲發(fā)生源與清洗槽為一體的雙頻恒溫?cái)?shù)控超聲波清洗器，國(guó)際、國(guó)內(nèi)首創(chuàng)。突破了幾十年來(lái)的超聲液溫根據(jù)超聲時(shí)間長(zhǎng)短、功率大小、密封程度來(lái)決定升溫快慢，溫度的高低。采用了加熱與制冷二種設(shè)備自動(dòng)轉(zhuǎn)換，超聲頻率自動(dòng)轉(zhuǎn)換，達(dá)到了超聲液溫的精確度及超聲連續(xù)工作不升溫，工件上不同性質(zhì)的污垢得到的清洗，成功的克服了洗凈上的。主要適用于工礦企業(yè)、大專(zhuān)院校、科研單位的對(duì)液溫精確度很高的清洗、脫氣、消泡、乳化、混勻、置換、提取、粉料粉碎及細(xì)胞粉碎。
主要性能及特點(diǎn)：數(shù)顯產(chǎn)品的出廠日期，實(shí)現(xiàn)合理“三包” 數(shù)顯記憶和設(shè)定的超聲頻率 數(shù)顯記憶和設(shè)定的超聲工作時(shí)間 數(shù)顯記憶和設(shè)定的恒溫溫度和實(shí)際溫度 數(shù)顯低水位、無(wú)溶液保護(hù)批示 清洗器的每個(gè)雙頻超聲換能器發(fā)射功率為50W 溶液過(guò)濾采用恒溫?cái)?shù)控裝置 清洗器網(wǎng)架采用不銹鋼網(wǎng)篩氬焊成形 降音蓋采用不銹鋼板及耐腐蝕密封條 數(shù)顯累計(jì)工作時(shí)間，實(shí)現(xiàn)合理“三包” 數(shù)顯記憶和設(shè)定的超聲頻率自動(dòng)轉(zhuǎn)換時(shí)間1-999秒 數(shù)顯記憶和設(shè)定的超聲功率 數(shù)顯超電壓、超電流保護(hù)指示 儀器的操作程序采用單片機(jī)軟件 儀器累計(jì)工作時(shí)間達(dá)999999小時(shí) 清洗器的排液功能采用不銹鋼球閥 清洗器內(nèi)槽采用不銹鋼板沖壓成形 清洗器的降音蓋、外殼采用不銹鋼板
一、 SBQX全自動(dòng)多功能清洗機(jī)是我公司科研人員經(jīng)科學(xué)研究，研制開(kāi)發(fā)出清洗石油采樣所用的取樣桶（器）和取樣杯等容器的專(zhuān)用清洗設(shè)備。該產(chǎn)品采用自動(dòng)化控制,性能優(yōu)良、安全、效果清潔、操作方便，節(jié)能環(huán)保，可最大限度的減輕化驗(yàn)人員勞動(dòng)強(qiáng)度，杜絕了化學(xué)清洗劑、溶劑油、汽油的使用，因而是綠色的、健康的、環(huán)保的,與老式清洗工藝相對(duì)比節(jié)約成本95%以上，是石油、化工等單位理想的清洗設(shè)備。本設(shè)備是通過(guò)清洗頭所噴出的高溫高壓水，對(duì)石油取樣桶（器）及取樣蓋的內(nèi)外表面進(jìn)行清洗，清洗用水循環(huán)使用，每套只需1分鐘，無(wú)需任何添加劑。清洗時(shí)油水自動(dòng)分離，便于原油回收。
二、
FXH50/ZF腐蝕清洗機(jī)
腐蝕清洗設(shè)備主要用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機(jī)物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴(kuò)散前、CMP后、氧化前及光刻后等關(guān)鍵工藝的清洗。 我公司可生產(chǎn)手動(dòng)、半自動(dòng)及全自動(dòng)刻蝕、清洗設(shè)備，以滿(mǎn)足2˝～8˝晶片各種工藝需求。 用戶(hù)可根據(jù)不同工藝選擇不同的工藝模塊。模塊有：一號(hào)液（SCⅡ）、二號(hào)液（SCⅢ）、稀釋氫氟（DHF）、快排沖水（QDR）、恒溫水浴緩沖刻蝕（BOE）、干燥（IPA）等。操作方式可分為全自動(dòng)（PLC+觸摸屏）、半自動(dòng)和手動(dòng)方式。 專(zhuān)業(yè)為客戶(hù)做適用于各種場(chǎng)合的濕法刻蝕、清洗等設(shè)備。
腐蝕清洗機(jī) 刻蝕機(jī) 腐蝕清洗設(shè)備
相關(guān)產(chǎn)品鏈接:FXH50/ZF腐蝕清洗機(jī)
勻膠機(jī)/涂膠機(jī) 腐蝕清洗機(jī) 清洗甩干機(jī) 熱板爐烘烤 劃片機(jī) 顯影機(jī) 半自動(dòng)晶片處理系統(tǒng)